非晶硅薄膜晶化方法

• 作者: 王从杰 白一鸣 陈诺夫 陶泉丽 马大燕
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: 多晶硅 热退火 金属诱导晶化 激光晶化
• 年，卷（期）: 2017,（z2）
• 所属期刊栏目: 光、电、磁功能材料
• 页码范围: 84-87
• 页数: 4页
• 分类号: O783
• 字数: 3060字
• 语种: 中文

摘要

多晶硅薄膜由于具有较高的载流子迁移率和良好的光电性能,广泛应用于集成电路及光电器件中,尤其在太阳电池领域引起了广泛关注.多晶材料晶界处会发生载流子的复合,降低载流子寿命.结晶度与晶粒尺寸是多晶硅薄膜取得良好性能的关键因素,直接制备的多晶硅薄膜一般晶粒尺寸较小、晶界较多,所以常采用非晶硅晶化法制备出晶粒尺寸较大的多晶硅薄膜.介绍了几种常见的非晶硅薄膜晶化方法,总结了各种晶化方法的机理和制备的薄膜的物理性质.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王从杰	华北电力大学可再生能源学院	5	7	2.0	2.0
2	陈诺夫	华北电力大学可再生能源学院	22	33	3.0	4.0
3	陶泉丽	华北电力大学可再生能源学院	10	13	2.0	3.0
4	白一鸣	华北电力大学可再生能源学院	20	35	3.0	4.0
5	马大燕	华北电力大学可再生能源学院	5	6	2.0	2.0