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摘要:
The application of transparent conducting indium-tin-oxide (ITO) film as full front electrode replacing the conventional bus-bar metal electrode in Ⅲ-V compound GalnP solar cell was proposed.A high-quality,non-rectifying contact between ITO and 10 nm N+-GaAs contact layer was formed,which is benefiting from a high carder concentration of the terrilium-doped N+-GaAs layer,up to 2× 1019 cm-3.A good device performance of the GaInP solar cell with the ITO electrode was observed.This result indicates a great potential of transparent conducting films in the future fabrication of larger area flexible Ⅲ-V solar cell.
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文献信息
篇名 Transparent conducting indium-tin-oxide (ITO) film as full front electrode in Ⅲ-V compound solar cell
来源期刊 中国物理B(英文版) 学科
关键词 full indium-tin-oxide (ITO) electrode specific contact resistance solar cell
年,卷(期) 2017,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 495-499
页数 5页 分类号
字数 语种 英文
DOI 10.1088/1674-1056/26/3/037305
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研究主题发展历程
节点文献
full indium-tin-oxide (ITO) electrode
specific contact resistance
solar cell
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期刊影响力
中国物理B(英文版)
月刊
1674-1056
11-5639/O4
北京市中关村中国科学院物理研究所内
eng
出版文献量(篇)
17050
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