TMA脉冲和吹扫时间对原子层沉积的氧化铝薄膜的影响

• 作者: 丁星伟 宋建涛 张浩 李春亚 魏斌
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 原子层沉积 Al2O3薄膜 三甲基铝 脉冲
• 年，卷（期）: 2017,（7）
• 所属期刊栏目: 工艺·技术
• 页码范围: 178-181
• 页数: 4页
• 分类号: TB332
• 字数: 2138字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2017.07.035

摘要

采用原子层沉积技术(ALD)进行Al2O3薄膜工艺研究,获得85 ℃低温Al2O3薄膜ALD的最佳工艺条件.使用椭偏仪测试厚度,使用扫描探针显微镜对薄膜表面形貌进行分析,使用紫外-分光光度计对薄膜的透过率进行分析,所用水汽透过率测试仪器是自行开发的基于钙电学法的测试仪器.分析了在85 ℃低温下的生长工艺条件对薄膜性能的影响,从前驱体脉冲时间,吹扫时间等工艺条件,对Al2O3薄膜的工艺条件进行优化.以三甲基铝(TMA)和H2O为前驱体制备的Al2O3薄膜:沉积速率为0.1 nm/cycle,表面粗糙度为0.46 nm,对550 nm波长光透过率为99.2%,薄膜厚度不均匀性为1.89%,200 nm的Al2O3薄膜的水汽透过率为1.55×10-4 g/m2/day.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张浩	上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室	19	62	5.0	6.0
3	魏斌	上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室	16	21	3.0	4.0
6	李春亚	上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室	3	10	2.0	3.0
7	宋建涛	上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室	2	2	1.0	1.0
8	丁星伟	上海大学新型显示技术及应用集成教育部重点实验室	1	1	1.0	1.0