纳米氮化硅的表面修饰及分散稳定性研究

• 作者: 丁国新 张宏艳 程国君
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: Si3N4 硅烷偶联剂 表面改性 分散稳定性
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 新材料与新技术
• 页码范围: 67-69
• 页数: 3页
• 语种: 中文

摘要

用γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(KH-570)对纳米氮化硅(Si3N4)粒子进行表面修饰,采用开炼混合和硫化工艺制得Si3N4/丁苯橡胶(SBR)纳米复合体系,通过红外光谱(FT-IR)、接触角仪、透射电镜(TEM)和橡胶加工分析仪(RPA)对改性前后纳米Si3N4粒子及纳米Si3N4/SBR复合体系在有机体系中的分散稳定性和力学性能进行分析.结果表明:KH-570分子链成功接枝在纳米Si3N4表面并急剧降低了纳米粒子的表面能,有效阻止纳米颗粒团聚,提高了纳米粒子在有机体系中的分散稳定性,改善了纳米复合材料的界面粘结,增强了复合材料的力学性能.制得的改性纳米Si3N4/SBR表面能为35.521J/m2,比未改性纳米Si3N4的表面憎水性提高了3倍以上,储能模量达到600kPa,有效提高了纳米Si3N4/SBR复合材料的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张宏艳		20	115	6.0	10.0
2	程国君		50	193	8.0	11.0
3	丁国新		50	106	5.0	8.0