镁合金表面铈盐掺杂硅烷膜的腐蚀电化学行为

• 作者: 吴海江 曾娣平 杨飞英 王小明 邹利华 郭文敏
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铈盐 γ-氨丙基三乙氧基硅烷 AZ91D镁合金 开路电位-时间曲线 电化学阻抗谱 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2017,（9）
• 所属期刊栏目: 表面失效及防护
• 页码范围: 209-214
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.45
• 字数: 4104字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.09.033

摘要

目的 为进一步提升镁合金表面常规硅烷膜的耐蚀性能.方法 在γ-氨丙基三乙氧基硅烷溶液中掺杂0.50 g/L硝酸铈,采用简单化学浸渍处理,在AZ91D镁合金基体表面制备了铈盐掺杂硅烷膜.借助扫描电子显微镜(SEM)观察了铈盐掺杂前后硅烷膜的表面微观形貌,通过开路电位-时间曲线、电化学交流阻抗谱(EIS)和中性盐雾试验(NSS)研究了铈盐掺杂对5% NaCl溶液中硅烷膜耐蚀性能的影响.结果 铈盐掺杂硅烷膜比普通硅烷膜更厚且平整,其致密性、均匀一致性较好,完全覆盖了镁合金基体,已看不到磨痕.铈盐掺杂硅烷膜的稳定电位约为?1.31 V,且需要的稳定时间最长.铈盐掺杂硅烷膜具有更大的低频阻抗数值,有效遏制了侵蚀性粒子向镁合金基体的迁移和扩散,避免了镁合金基体发生阳极溶解反应.结论 采用向硅烷溶液中添加硝酸铈的方法,能够在AZ91D镁合金表面制备出铈盐掺杂硅烷膜.由于铈离子在某种程度上修复了硅烷膜层中的微裂纹和缺陷,显著提升了硅烷膜的耐蚀能力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴海江	邵阳学院机械与能源工程系	21	39	4.0	4.0
2	邹利华	邵阳学院机械与能源工程系	19	38	4.0	4.0
3	王小明	邵阳学院机械与能源工程系	16	38	4.0	4.0
4	郭文敏	邵阳学院机械与能源工程系	9	18	3.0	3.0
5	曾娣平	邵阳学院机械与能源工程系	7	22	3.0	4.0
6	杨飞英	邵阳学院机械与能源工程系	6	18	3.0	4.0