TiN颗粒对镁合金微弧氧化过程及膜层性能的影响

• 作者: 任洋洋 唐明奇 张瑞珠 蔡会苹 贾新杰
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: AZ91D镁合金 微弧氧化 TiN颗粒 膜层硬度 物相组成 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2017,（9）
• 所属期刊栏目: 膜层材料与技术
• 页码范围: 81-86
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.442
• 字数: 2782字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.09.013

摘要

目的 分析TiN颗粒在镁合金微弧氧化过程中的作用,并研究其在膜层中对镁合金硬度、耐磨和耐蚀等性能的影响.方法 通过在微弧氧化电解液中添加2.7 μm TiN颗粒,并使其充分分散于电解液中,使电解液中TiN颗粒的质量浓度分别为0、2、4、6 g/L,并控制其他实验参数(如电流密度、频率、占空比和氧化时间)一样的情况下进行实验,通过电子显微镜、涂层厚度测厚仪、显微维氏硬度计、X射线衍射和电化学工作站,分别从膜层的表面形貌、厚度、硬度、相组成及耐蚀性等方面,研究了 TiN 颗粒对镁合金微弧氧化膜层性能的影响.结果 在微弧氧化电解液中添加TiN颗粒后,相同电化学参数下制得的微弧氧化膜层变得致密,厚度、硬度有所增加,氧化膜层主要由Mg、MgO、Mg2Zr5O12、TiN组成.极化曲线显示,加入TiN颗粒,制备的微弧氧化膜层比未加入TiN颗粒制得的膜层的腐蚀电流下降了2个数量级.阻抗图谱表明,电阻值增加了1个数量级.结论 TiN颗粒能够随镁合金的微弧氧化过程进入制得的氧化膜层中,并且能够增加膜层厚度和硬度,使膜层的耐磨、耐蚀性得到提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张瑞珠		87	336	10.0	14.0
2	唐明奇		20	92	6.0	9.0
3	任洋洋		4	44	3.0	4.0
4	贾新杰		3	7	1.0	2.0
5	蔡会苹		2	7	1.0	2.0