净水厂中全氟化合物分布特征及UV/SO32-的去除机理

• 作者: 周浩 孙敏
• 来源期刊: 中国给水排水
• 学科: 工学
• 关键词: 净水厂 PFCs UV SO32- 水合电子
• 年，卷（期）: 2017,（19）
• 所属期刊栏目: 论述与研究
• 页码范围: 6-10,15
• 页数: 6页
• 分类号: TU991
• 语种: 中文

摘要

通过考察长江原水和南方某净水厂各单元处理工艺中5种全氟化合物(PFCs)的分布特征,分析了各单元对PFCs的去除效果,并探讨了UV/SO2-光还原技术降解饮用水中PFCs的机理.长江原水经过净水厂处理后,总PFCs去除率为35.33％,其中混凝沉淀工艺对PFCs的去除率最高,臭氧和氯消毒工艺会造成PFCs的增加;采用波长为365 nm、功率为500W的紫外灯激发SO32-产生的水合电子能够降解水中的PFCs.当PFCs初始浓度为1 mg/L、SO32-浓度为0.4 g/L、pH值为8.5时,5种PFCs的降解均符合一级反应动力学;PFDA降解的中间产物表明UV/SO32-技术是通过逐步脱去CF2实现降解的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周浩		16	46	4.0	6.0
2	孙敏		30	345	11.0	18.0