W、Mo离子注入对离子镀TiN薄膜表面结构和性能的影响

• 作者: 刘宝辉 岳文 王成彪 田斌
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 离子注入 氮化钛 摩擦 磨损 钨离子 钼离子
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 专题——硬质薄膜与涂层技术
• 页码范围: 174-179
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.442
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.027

摘要

目的 进一步改善氮化钛薄膜的摩擦学性能.方法 利用金属蒸汽真空弧源(MEVVA)在离子镀TiN薄膜表面进行等剂量W、Mo离子注入.采用扫描俄歇系统、光学三维形貌仪、X射线衍射仪和纳米压痕仪,分别分析了TiN薄膜的离子注入深度、表面形貌及粗糙度、相结构和不同压入深度的薄膜硬度.在球盘滑动摩擦磨损试验机上考察了TiN薄膜的摩擦学性能,并利用扫描电子显微镜和三维形貌仪对其磨损形貌进行分析.结果 等剂量离子注入后,TiN表面注入层中W离子的含量明显大于Mo离子,两种离子注入对TiN薄膜的表面形貌和硬度的影响较小.XRD结果表明,W离子和Mo离子注入后均发现了Ti2N硬质相.两种离子注入均可以不同程度地降低TiN薄膜的摩擦系数和磨损率.结论 W、Mo离子注入均可显著改善TiN薄膜的摩擦学性能,但Mo离子更有利于其摩擦系数的降低,而W离子注入更有利于TiN薄膜磨损率的降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田斌	北京工商大学材料与机械工程学院	5	13	2.0	3.0
2	刘宝辉	北京工商大学材料与机械工程学院	2	6	2.0	2.0