石墨衬底上铝诱导法制备多晶硅薄膜

• 作者: 张航 王从杰 白一鸣 贺凯 陈吉堃 陈诺夫 魏立帅
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射 铝诱导 石墨衬底 多晶硅薄膜
• 年，卷（期）: 2017,（9）
• 页码范围: 1709-1713
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3553字
• 语种: 中文

摘要

利用磁控溅射技术在石墨衬底上制备了石墨/a-Si/Al和石墨/Al/a-Si叠层结构,采用常规退火(CTA)和快速热退火(RTA)对样品进行退火,系统研究了不同退火条件对多晶硅薄膜制备的影响.利用X射线衍射(XRD),拉曼光谱(Raman)对制备的多晶硅薄膜进行表征,并利用谢乐公式计算了晶粒尺寸,结果表明制备的多晶硅薄膜具有高度(111)择优取向,结晶质量良好,利于后续外延制作多晶硅厚膜电池.基于实验结果,建立了铝诱导晶化模型,很好的解释了实验现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王从杰	华北电力大学可再生能源学院	5	7	2.0	2.0
2	陈诺夫	华北电力大学可再生能源学院	22	33	3.0	4.0
3	魏立帅	华北电力大学可再生能源学院	5	7	2.0	2.0
4	贺凯	华北电力大学可再生能源学院	4	7	2.0	2.0
5	张航	华北电力大学可再生能源学院	6	4	2.0	2.0
6	白一鸣	华北电力大学可再生能源学院	20	35	3.0	4.0
7	陈吉堃	北京科技大学材料科学与工程学院	11	16	2.0	3.0