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非平衡磁控溅射沉积Ti-N薄膜色彩和性能调控研究
非平衡磁控溅射沉积Ti-N薄膜色彩和性能调控研究
作者:
严晟硕
叶崇晖
李安锁
祝超越
章陵
鲍明东
鲍晓晅
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
磁控溅射
Ti-N薄膜
氮气流量
溅射电流
偏压
薄膜颜色
摘要:
目的 研究Ti-N薄膜颜色和硬度及其结合强度的影响因素.方法 利用封闭磁场非平衡磁控溅射离子镀膜技术,该变溅射偏压、氮气流量等参数,分别在304不锈钢基体和载玻片基体上沉积多彩Ti-N薄膜.用努氏硬度、划痕法和球坑法分别评价Ti-N薄膜的显微硬度和结合强度等性能.结果 当偏压和溅射电流分别为60 V和2 A时,将反应气体氮气流量从3sccm逐渐增加到20sccm,Ti-N薄膜颜色依次发生从"淡黄-金黄-红黄-紫红-金黄"的循环变化趋势.薄膜的硬度随氮气流量的增加在601~700HK之间呈逐步上升的趋势.膜基结合普遍较好.当氮气流量和溅射电流分别为10sccm和2 A时,将负偏压从50 V逐渐增加到120 V,薄膜颜色从淡黄色变成金黄色,膜基结合强度较好.硬度随偏压的增加变化不明显.结论 影响Ti-N薄膜颜色的主要因素为氮气流量,偏压也可以轻微地改变薄膜颜色,但对薄膜性能影响并不明显.
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沉积参数对磁控溅射CrNX膜结构和性能的影响
直流磁控溅射
CrNX膜
沉积参数
结构与性能
内容分析
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文献信息
篇名
非平衡磁控溅射沉积Ti-N薄膜色彩和性能调控研究
来源期刊
表面技术
学科
工学
关键词
磁控溅射
Ti-N薄膜
氮气流量
溅射电流
偏压
薄膜颜色
年,卷(期)
2017,(6)
所属期刊栏目
专题——硬质薄膜与涂层技术
研究方向
页码范围
168-173
页数
6页
分类号
TG174.442
字数
语种
中文
DOI
10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.026
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
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1
严晟硕
宁波工程学院材料与化学工程学院
1
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2
李安锁
宁波工程学院材料与化学工程学院
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祝超越
宁波工程学院材料与化学工程学院
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叶崇晖
宁波工程学院材料与化学工程学院
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章陵
宁波工程学院材料与化学工程学院
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节点文献
磁控溅射
Ti-N薄膜
氮气流量
溅射电流
偏压
薄膜颜色
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
主办单位:
中国兵器工业第五九研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1001-3660
CN:
50-1083/TG
开本:
16开
出版地:
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
邮发代号:
78-31
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
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