调制周期对磁控溅射WB2/CrN多层薄膜力学性能的影响

• 作者: 孙超 宫骏 范迪 郭朝乾 雷浩
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 多层膜 调制周期 磁控溅射 硬度 结合力 WB2
• 年，卷（期）: 2017,（6）
• 所属期刊栏目: 专题——硬质薄膜与涂层技术
• 页码范围: 156-160
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.442
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.06.024

摘要

目的 研究调制周期对磁控溅射WB2/CrN多层膜结构及性能的影响.方法 通过双靶直流磁控溅射法,在硅片、石英玻璃片及不锈钢上,制备AlB2型WB2薄膜与CrN薄膜及其多层复合薄膜,采用X射线衍射及扫描电子显微镜对其相结构及形貌进行观察和分析,使用维氏显微硬度仪及划痕仪对多层膜的硬度及膜基结合力进行研究.结果 磁控溅射WB2/CrN多层薄膜呈现出柱状生长趋势,且层状结构明显,仅当调制周期大于317 nm时,多层膜中才出现WB2晶体的衍射峰.结论 多层膜中的WB2薄膜在本实验条件下的临界结晶厚度大于150 nm.随着调制周期的减小,CrN层生长取向发生由(200)晶面向多晶面的转变,WB2层生长取向由(101)晶面向(001)晶面转变.多层膜硬度随调制周期的减小大体呈下降趋势,在调制周期为317 nm时达到最大值.结合力变化趋势与硬度相反,CrN层及多层界面有助于复合薄膜膜基结合强度的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	雷浩	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	13	34	4.0	5.0
2	孙超	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	126	1708	23.0	34.0
3	宫骏	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	52	464	12.0	20.0
4	范迪	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	3	4	2.0	2.0
5	郭朝乾	中国科学院金属研究所材料表面工程研究部	2	9	2.0	2.0