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摘要:
采用磁控反应共溅射的方法,以金属Ce和Sn为金属源,成功地制备出CeOx-SnOx薄膜.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、透射电子显微镜(TEM)和X射线光电子能谱(XPS)等测试手段对薄膜的结构、表面形貌及成分进行了分析和表征.结果表明薄膜以岛状模式生长,随氩氧比降低,结晶性增强,出现CeO2和SnO相.此外,利用紫外-可见分光光度计对薄膜的光学性能进行了研究,测试结果表明薄膜对紫外光有极强的吸收作用.当氩氧流量比为3∶1时,紫外光平均透过率仅为5.80%,而可见光平均透过率为81.48%.
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文献信息
篇名 氩氧流量比对CeOx-SnOx膜微观结构及光学性能的影响
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 磁控反应共溅射 CeOx-SnOx薄膜 氩氧流量比 紫外截止
年,卷(期) 2017,(5) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 861-866,873
页数 7页 分类号 O484.4
字数 3729字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 那聪 海南大学南海海洋资源利用国家重点实验室 2 0 0.0 0.0
2 蔡思翔 海南大学南海海洋资源利用国家重点实验室 1 0 0.0 0.0
3 冯建 海南大学南海海洋资源利用国家重点实验室 1 0 0.0 0.0
4 王红燕 海南大学南海海洋资源利用国家重点实验室 3 0 0.0 0.0
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磁控反应共溅射
CeOx-SnOx薄膜
氩氧流量比
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期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
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