哈氏合金C-276电抛光中抛光液的失效分析

• 作者: 庄维伟 胡宗林 陆玲
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 哈氏合金 电化学抛光 抛光液 粗糙度
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 表面质量控制及检测
• 页码范围: 255-260
• 页数: 6页
• 分类号: TG175.3
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.05.041

摘要

目的 哈氏合金C-276带材被广泛用作第二代高温超导体YBCO的金属衬底,其表面抛光质量(粗糙度Ra)要求极为严格.为了保证抛光质量就要有效控制电化学抛光液,对抛光液的变化及失效与否进行分析.方法 以哈氏合金C-276带材为研究对象,采用非接触式电化学抛光方法,使用扫描电镜、原子力显微镜、金相显微镜、微波等离子体原子发射光谱仪等仪器设备,阐明了抛光液中H3PO4和H2SO4等主要成分的作用及工艺要求,并测定单位体积抛光液在一定时间内通过电量(Ah/L)后,H3PO4、H2SO4含量及Ni、Cr、Mo等金属离子浓度.结果 当H3PO4、H2SO4含量分别在775~1013 g/L、318~451 g/L范围内,Ni、Cr、Mo三种金属离子质量浓度分别小于7.3、2.7、3.4 g/L时,C-276带材表面的粗糙度才能满足工艺要求Ra<1 nm(5μm×5μm).结论 通过对电化学抛光液中的H3PO4、H2SO4、添加剂、金属离子浓度等有效控制,采用非接触式电化学抛光,实现了千米级哈氏合金第二代高温超导带材的连续生产,并且表面粗糙度Ra<1 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庄维伟		4	2	1.0	1.0
2	胡宗林		2	0	0.0	0.0
3	陆玲		2	0	0.0	0.0