He等离子体射流处理对提高重污秽度染污硅橡胶憎水迁移性的效果

• 作者: 周新磊 夏衍 廖一帆 张福增 张若兵
• 来源期刊: 高电压技术
• 关键词: 等离子体射流 染污硅橡胶 重污秽度 憎水性 憎水迁移性 静态接触角
• 年，卷（期）: 2017,（12）
• 所属期刊栏目: 放电等离子体与脉冲功率
• 页码范围: 3988-3993
• 页数: 6页
• 语种: 中文
• DOI: 10.13336/j.1003-6520.hve.20171127023

摘要

等离子体射流处理能够提高染污硅橡胶材料表面憎水性,在电力行业中具有广阔的应用前景.为提高处理效果,利用大气压He等离子体射流对重污秽度染污硅橡胶表面进行处理,对射流长度、气体温度、发射光谱等射流特性进行了诊断,研究了放电功率、处理时间等参数对提高染污硅橡胶憎水性及憎水迁移性的影响.实验结果表明,射流长度最大能达到46 mm,气体温度介于297～345 K之间,放电产生了大量激发态He、OH、N2+等活性粒子;射流处理能显著提高染污硅橡胶表面憎水性,对于灰密为1.5 mg/cm2的重污秽度染污硅橡胶,最少处理30 s就可使静态接触角达到饱和状态,增大放电功率可以显著加速迁移过程.