螺旋波等离子体合成SiON薄膜及其特性

• 作者: 吴雪梅 季佩宇 於俊 诸葛兰剑 金成刚 黄天源
• 来源期刊: 科学通报
• 关键词: 螺旋波等离子体 SiON 发射光谱 X射线光电子能谱 原子力显微镜
• 年，卷（期）: 2017,（19）
• 所属期刊栏目: 应用物理学
• 页码范围: 2125-2131
• 页数: 7页
• 语种: 中文
• DOI: 10.1360/N972016-01182

摘要

采用不同比例的N2/Ar螺旋波等离子体(HWP),对Si表面进行氮化处理合成SiON薄膜.X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy,XPS)结果显示,SiON薄膜主要由Si-O-N和SiN键的两相结构组成.原子力显微镜结果表明氮化层光滑平整,薄膜表面粗糙度小于1.2 nm.水接触角的测量表明经过等离子体处理后样品表面疏水性能提高.放电过程中通过发射光谱采集了不同N2和Ar流量比放电时的光谱数据,研究了等离子体中的粒子与SiON薄膜结构之间的关系.