电压对TiAl合金含ZrO2微弧氧化膜生长特性的影响

• 作者: 丁业立 郝建民 郭超飞 陈宏 陈永楠
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: TiAl合金 微弧氧化 生长特性 ZrO2 膜层厚度 电压
• 年，卷（期）: 2017,（5）
• 所属期刊栏目: 专题——轻合金微弧氧化技术
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.44
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2017.05.001

摘要

目的 在TiAl合金表面制备较厚的含ZrO2相的微弧氧化膜层,并研究电压对微弧氧化膜层生长特性的影响.方法 采用可溶性锆盐电解液体系,分别在480、500、520 V电压下对TiAl合金试样进行微弧氧化处理.分别采用涡流测厚仪、扫描电子显微镜和X射线衍射仪,检测膜层的厚度、微观形貌和物相组成.结果 在480、500、520 V电压下制备的膜层厚度分别为18、28、48μm,电压小幅度的增加使膜层厚度大幅度增加.膜层的主晶相为t-ZrO2,并含有m-ZrO2、Al2O3和TiO2相,随着电压的升高,m-ZrO2相的含量略有增加.膜层表面有许多大小不一的类似于"火山口"的微孔和一些陶瓷颗粒,随着电压的升高,微孔孔径增加,膜层表面粗糙度增加.结论 电压对膜层相组成的影响较小,对膜层微观形貌和厚度具有显著影响.较高电压有利于提高膜层的厚度,同时会增加膜层的粗糙度和表面微孔孔径.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈宏	长安大学材料科学与工程学院	54	743	14.0	26.0
2	郝建民	长安大学材料科学与工程学院	80	930	17.0	28.0
3	陈永楠	长安大学材料科学与工程学院	52	117	6.0	8.0
4	丁业立	山东交通学院海运学院	10	22	2.0	4.0
5	郭超飞	长安大学材料科学与工程学院	1	2	1.0	1.0