氮氩混合比对TA2真空氮化层结构与性能的影响

• 作者: 刘静 杨峰 杨闯 熊茫茫 祝园园
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: TA2工业纯钛 真空渗氮 氮氩比
• 年，卷（期）: 2017,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 79-82
• 页数: 4页
• 分类号: TG156.8+2
• 字数: 2648字
• 语种: 中文
• DOI: 10.11896/j.issn.1005-023X.2017.04.018

摘要

采用间歇式真空氮化技术对TA2钛合金进行渗氮处理.探究氮氩混合比对合金氮化层结构和性能的影响规律.结果表明:表面渗氮层主要由TiN和TiN0.3相组成,氮氩比越低其有效硬化层越厚,但会降低有效活性N原子的相对含量,不利于渗层的致密性.适当的氮氩混合比能在TA2表面形成氮化物,N原子有效地向纵深扩散,氮化物层与扩散层结合紧密,过渡良好,硬度梯度平缓;腐蚀电位随着氮氩比的增加呈现逐渐上升趋势,从氮氩比为1∶5时的-0.622 V提升到氮氩比为5∶1时的-0.549V,腐蚀电流和腐蚀速率则呈现出逐渐降低的趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘静	贵州师范大学材料与建筑工程学院	84	240	8.0	10.0
2	杨闯	贵州师范大学材料与建筑工程学院	34	120	6.0	9.0
3	祝园园	贵州师范大学材料与建筑工程学院	5	6	2.0	2.0
4	杨峰	贵州师范大学材料与建筑工程学院	26	66	5.0	7.0
5	熊茫茫	贵州师范大学材料与建筑工程学院	5	5	2.0	2.0