Ag缓冲层对ZnO∶Al薄膜结构与光电性能的改善

• 作者: 宗海涛 康朝阳 曹国华 李明 程静云
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 射频磁控溅射 AZO/Ag/AZO 光电性能
• 年，卷（期）: 2017,（2）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 322-329
• 页数: 8页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.66.027702

摘要

在室温条件下,采用射频磁控溅射法在玻璃基底上制备出了一系列高质量的AZO薄膜和不同Ag缓冲层厚度的AZO/Ag/AZO复合薄膜.利用X射线衍射和原子力显微镜分别对薄膜的物相和表面形貌进行了表征;利用霍尔效应测试仪和紫外-可见光分光光度计等实验技术对薄膜的光电性能进行了研究.实验结果表明,Ag缓冲层厚度对AZO薄膜的晶体结构和光电性能影响较大.当Ag层厚度为10 nm时,AZO(30nm)/Ag(10 nm)/AZO(30 nm)薄膜拥有最优品质因子,为1.59×10-1Ω-1,方块电阻为0.7Ω/□,可见光区平均透过率为84.2％.另外,薄膜电阻随温度的变化趋势呈现金属电阻随温度的变化特性,光电热稳定性较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宗海涛	河南理工大学物理与电子信息学院	7	12	3.0	3.0
2	李明	河南理工大学物理与电子信息学院	24	58	4.0	6.0
3	康朝阳	河南理工大学物理与电子信息学院	6	13	3.0	3.0
4	曹国华	河南理工大学物理与电子信息学院	10	33	3.0	5.0
5	程静云	河南理工大学物理与电子信息学院	2	6	2.0	2.0