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摘要:
近年来科学技术的不断发展,半导体工艺得以全面升级发展,使得洁净室控制质量的要求越来越苛刻.由于AMC在生产进程中针对不同制程均会产生不良的影响,使得成品质量受到严重的影响,如何针对AMC进行监测与控制就成为当前亟需解决的重要课题.
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文献信息
篇名 AMC在洁净室中的监测与控制
来源期刊 技术与市场 学科
关键词 洁净室 AMC 监测 控制
年,卷(期) 2017,(12) 所属期刊栏目 技术研发
研究方向 页码范围 210
页数 1页 分类号
字数 1577字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-8554.2017.11.127
五维指标
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研究主题发展历程
节点文献
洁净室
AMC
监测
控制
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
技术与市场
月刊
1006-8554
51-1450/T
大16开
四川省成都市
62-125
1980
chi
出版文献量(篇)
29073
总下载数(次)
69
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