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摘要:
等离子体浸没离子注入(Plasma-immersion-ion-implantation,简称PIII)已被广泛应用于金属、半导体以及绝缘介质材料改性等领域.通过一维流体力学模型,利用C语言实现编程,对一维平面介质靶鞘层特性进行了数值模拟,得到了鞘层的演化规律,模拟的结果可以为优化实际的工艺参数提供参考.
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离子注入
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关键词云
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文献信息
篇名 等离子体浸没离子注入介质材料鞘层演化规律
来源期刊 电子测试 学科
关键词 等离子体浸没离子注入 冷流体力学模型 鞘层 数值模拟
年,卷(期) 2017,(22) 所属期刊栏目 理论与算法
研究方向 页码范围 34-35
页数 2页 分类号
字数 2616字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-8519.2017.22.015
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作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 朱文艳 8 0 0.0 0.0
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研究主题发展历程
节点文献
等离子体浸没离子注入
冷流体力学模型
鞘层
数值模拟
研究起点
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子测试
半月刊
1000-8519
11-3927/TN
大16开
北京市100098-002信箱
82-870
1994
chi
出版文献量(篇)
19588
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