基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
0.8μm高压BCD(Bipolar-CMOS-DMOS)电路存在漏电失效,其失效原因是IMD(Inter-Metal Dielectric)平坦化不良,造成金属2残留短路.通过SOG(spin-on-glass)二次平坦化工艺,大幅改善了IMD的平坦化效果,将平坦化因子由0.35提升到0.90,杜绝了金属2残留,较好地解决了漏电问题,提高了电路成品率.
推荐文章
基于0.5 μm BCD工艺的欠压锁存电路设计
欠压锁存
电源管理
带隙基准
滞回区间
BCD工艺
引线镀层材料不当造成塑封器件漏电失效
引线镀层
银迁移
漏电
失效
某单片微波集成电路漏电问题分析
单片微波集成电路
漏电
失效分析
基于单片机的四位BCD编码器电路设计
BCD编码
AT89C2051
矩阵键盘
电路设计
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 0.8μm高压BCD电路漏电失效改善
来源期刊 电子与封装 学科 工学
关键词 BCD SOG 平坦化 漏电失效
年,卷(期) 2018,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 40-43
页数 4页 分类号 TN407
字数 2067字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 向璐 1 0 0.0 0.0
2 陈洪雷 1 0 0.0 0.0
3 苏兰娟 1 0 0.0 0.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (0)
共引文献  (0)
参考文献  (3)
节点文献
引证文献  (0)
同被引文献  (0)
二级引证文献  (0)
1986(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2002(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2012(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2018(0)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
BCD
SOG
平坦化
漏电失效
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子与封装
月刊
1681-1070
32-1709/TN
大16开
江苏无锡市惠河路5号(208信箱)
2002
chi
出版文献量(篇)
3006
总下载数(次)
24
总被引数(次)
9543
论文1v1指导