靶基距对杂化离子镀TiCN薄膜结构和性能的影响

• 作者: 孙国威 张川 李云珂 陈泽昊 黄美东
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 杂化离子镀 TiCN薄膜 靶基距 硬度
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 页码范围: 19-22
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|O484
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2018.02.05

摘要

以基底与溅射碳靶之间的距离(靶基距)为变量参数,采用杂化离子镀技术在高速钢、硅片以及不锈钢片表面制备TiCN薄膜.用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、维氏硬度计、XP-2台阶仪分别对薄膜的物相结构、表面形貌、显微硬度、沉积速率进行表征,研究了靶基距对薄膜结构和性能的影响.结果表明,所制备的TiCN薄膜具有晶体结构,膜层沿TiCN(220)晶面择优生长;靶基距的增加会使薄膜的沉积速率逐渐增快,但薄膜中C的掺杂量、显微硬度则会随之下降,表面质量也不断变差.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄美东	天津师范大学物理与材料科学学院	56	185	7.0	10.0
2	陈泽昊	天津师范大学物理与材料科学学院	6	14	2.0	3.0
3	张川	天津师范大学物理与材料科学学院	6	4	1.0	1.0
4	孙国威	天津师范大学物理与材料科学学院	1	1	1.0	1.0
5	李云珂	天津师范大学物理与材料科学学院	6	50	5.0	6.0