硫酸盐体系三价铬沉积机理及镀层表征

• 作者: 周绍民 杨防祖 田中群 闫慧 黄帅帅
• 来源期刊: 电化学
• 学科: 化学
• 关键词: 三价铬 硫酸盐 厚铬 电沉积 机理 镀层表征
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 电镀与表面精饰专辑
• 页码范围: 20-27
• 页数: 8页
• 分类号: O646
• 语种: 中文
• DOI: 10.13208/j.electrochem.170441

摘要

在新研发的硫酸盐三价铬镀厚铬的镀液体系中,运用线性扫描伏安法(LSV)和循环伏安法(CV)对三价铬在铜电极表面的电沉积过程进行研究,并运用X射线荧光测厚仪、扫描电子显微镜(SEM)、X射线能量色散谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计和Tafel曲线表征铬镀层厚度、形貌、组成、结构、显微硬度及在3.5wt％NaC1溶液中的耐蚀性.结果表明,在该体系中三价铬的沉积过程分两步进行(Cr3++e→Cr2+,Cr2++ 2e→Cr),第一步得到1个电子,受电化学过程和扩散过程共同控制;第二步得到2个电子,为扩散控制下的不可逆过程.该镀层为瘤状纳米晶结构,镀层中含有少量的铁元素(1.10wt％),显微硬度达到789.2 Hv,镀层在3.5wt％ NaC1溶液中的腐蚀电位Ecorr为-0.29 V,腐蚀电流密度jcorr为9.26×105A·dm-2.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田中群		103	779	14.0	23.0
2	杨防祖		57	701	16.0	23.0
3	周绍民		47	624	15.0	22.0
4	黄帅帅		3	0	0.0	0.0
5	闫慧		4	25	2.0	4.0