低温热氧化法制备Bi2O3薄膜及其热氧化机理研究

• 作者: 丁明建 冯毅龙 庄严 杨俊锋
• 来源期刊: 广州化学
• 学科: 工学
• 关键词: Bi2O3 薄膜 热氧化
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 39-43
• 页数: 5页
• 分类号: TQ110.3
• 字数: 2587字
• 语种: 中文
• DOI: 10.16560/j.cnki.gzhx.20180409

摘要

通过直流磁控溅射法在Si基片表面沉积Bi薄膜,然后置于氧气中加热.系统研究了热氧化温度对上述薄膜的物相组成、微观形貌的影响.X-射线衍射(XRD)结果表明,Bi薄膜可在200～270℃氧化形成Bi2O3薄膜.不同温度、不同氧化时间,样品的质量变化表明,磁控溅射沉积的Bi金属薄膜热氧化形成Bi2O3薄膜,遵循Mott-Cebrera热氧化机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	丁明建		9	3	1.0	1.0
2	冯毅龙		8	3	1.0	1.0
3	杨俊锋		7	3	1.0	1.0
4	庄严		6	2	1.0	1.0