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薄膜工艺制造误差对电路性能的影响
薄膜工艺制造误差对电路性能的影响
作者:
刘巍巍
梁广华
贾世旺
邢伯仑
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
薄膜
误差
正态分布
回归方程
滤波器
摘要:
薄膜工艺具有加工高精度图形的能力,广泛应用于微波毫米波电路中.在设计薄膜滤波器等无源电路时,为了降低分析、 计算难度,常采用理想模型,未考虑工艺制造误差及材料特性等影响,造成了实测值与计算结果有一定偏差.为了提高薄膜电路设计的准确性,对设备、 人员相对稳定的薄膜工艺线各主要工序制造误差进行分析,通过大量实测数据,统计出了该工艺线制造误差范围,常规线宽偏差±4.5μm以内,关键线宽可控制在±2.0μm以内,线条厚度误差±20%以内.根据工艺制造能力,构建电路的三维多参数仿真模型,与理想模型进行对照,给出了薄膜工艺制造误差对滤波器电性能的影响,为今后准确设计滤波器等无源电路提供了有力的指导.应用结果表明,多参数模型与实测结果更为接近.
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文献信息
篇名
薄膜工艺制造误差对电路性能的影响
来源期刊
无线电工程
学科
工学
关键词
薄膜
误差
正态分布
回归方程
滤波器
年,卷(期)
2018,(2)
所属期刊栏目
电磁场与微波
研究方向
页码范围
138-143
页数
6页
分类号
TN451
字数
4436字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-3106.2018.02.12
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
贾世旺
中国电子科技集团公司第五十四研究所
11
49
4.0
6.0
2
梁广华
中国电子科技集团公司第五十四研究所
6
17
2.0
4.0
3
刘巍巍
中国电子科技集团公司第五十四研究所
4
8
2.0
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邢伯仑
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误差
正态分布
回归方程
滤波器
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
无线电工程
主办单位:
中国电子科技集团公司第五十四研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-3106
CN:
13-1097/TN
开本:
大16开
出版地:
河北省石家庄市174信箱215分箱
邮发代号:
18-150
创刊时间:
1971
语种:
chi
出版文献量(篇)
5453
总下载数(次)
12
总被引数(次)
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