不同工作参数下Ni/Ag双层膜GDOES深度谱的比较

• 作者: 余云鹏 冯朗丹 庄素娜 林晓琪 梁家伟 毕焰枫 王江涌 韩逸山
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 辉光放电发射光谱 深度剖析 薄膜 自偏压 溅射速率
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 页码范围: 5-9
• 页数: 5页
• 分类号: TB43|O484
• 字数: 3646字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13385/j.cnki.vacuum.2018.02.02

摘要

随着射频辉光放电光谱仪在镀层和薄膜深度剖析中的应用逐渐深入,人们对其工作原理、设置参数对测试的影响也越来越关注.本文通过在不同气体工作压强和溅射功率下,对镍/银双层膜样品进行了辉光放电深度剖析的实验,探讨了自偏压与工作压强和溅射功率的关系.实验结果表明,自偏压随工作压强的增加而减小;随着溅射功率的增加,溅射速率随之增加,在特定的工作压强下会出现一个最大的溅射速率;溅射坑的形貌主要取决于气体的工作压强.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林晓琪	汕头大学物理系	18	42	4.0	5.0
2	余云鹏	汕头大学物理系	27	230	8.0	14.0
3	王江涌	汕头大学物理系	22	34	3.0	4.0
4	韩逸山	汕头大学物理系	4	9	2.0	2.0
5	梁家伟	汕头大学物理系	2	6	1.0	2.0
6	庄素娜	汕头大学物理系	2	6	1.0	2.0
7	毕焰枫	汕头大学物理系	1	1	1.0	1.0
8	冯朗丹	汕头大学物理系	1	1	1.0	1.0