N2流量对磁控溅射TiAlN薄膜耐腐蚀性能的影响

• 作者: 刘安强 李钢 王玉 袁建鹏
• 来源期刊: 热喷涂技术
• 关键词: 磁控溅射 TiAlN薄膜 显微组织 盐雾试验 电化学特性
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 其它
• 页码范围: 69-74
• 页数: 6页
• 分类号: TG174.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-7127.2018.02.011

摘要

采用非平衡磁控溅射技术在Q235钢和单晶硅基片上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜(FESEM)、纳米力学探针、划痕测试仪对薄膜的微观组织结构和力学性性能进行研究;采用盐雾试验和电化学极化测试技术研究了薄膜在含Cl-环境中的腐蚀行为与电化学特性.结果表明,随着N2流量的升高,TiAlN薄膜的硬度和弹性模量先升高后迅速降低,当N2流量为10sccm时,薄膜具有最高的硬度和结合力,分别为30.7GPa和44.2N.盐雾试验240h后,N2流量为10sccm时的TiAlN薄膜表面腐蚀最轻微,表现出了良好的抗盐雾腐蚀性能;电化学测试结果表明,在3.5%NaCl溶液中,N2流量为10sccm时TiAlN薄膜腐蚀电流密度最小,仅为1.38×10-4mA·cm-2,,约为N2流量为16sccm时薄膜的1/4,表现出优异的耐腐蚀性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	袁建鹏		14	88	5.0	9.0
5	王玉		2	1	1.0	1.0
7	刘安强		6	23	4.0	4.0
11	李钢		2	2	1.0	1.0