阻挡层抛光中布线槽铜电阻Rs的控制机制研究

• 作者: 刘玉岭 岳昕 李祥州 王辰伟 郑环
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 布线槽 铜线条 电阻 阻挡层 钝化层
• 年，卷（期）: 2018,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 386-392
• 页数: 7页
• 分类号: TN405
• 语种: 中文
• DOI: 10.13373/j.cnki.cjrm.XY16060036

摘要

布线槽处铜线条的电阻Rs关系着集成电路的响应速度和芯片的电特性.阻挡层抛光的过程中会造成布线槽处铜线条电阻Rs的变化,为了实现Rs的变化可控,使用FA/O螯合剂和JFC活性剂进行实验测试和机制研究.测试结果表明布线槽铜线条电阻R s的变化取决于铜线条厚度的大小,铜线条厚度的大小是由铜线条去除速率VCu决定的.对含有不同浓度FA/O螯合剂和JFC活性剂的抛光液进行电化学实验研究,结果表明螯合剂FA/O对Cu2+有很强的螯合作用,可以促进抛光液对布线槽铜线条的化学作用,提高布线槽铜线条的去除速率VCu;活性剂JFC对布线槽铜线条表面有很强的钝化作用,可以抑制抛光液对布线槽铜线条的化学作用,减小布线槽铜线条的去除速率VCu.利用螯合剂FA/O的强螯合作用和活性剂JFC的强钝化作用实现了布线槽铜电阻R s的控制.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘玉岭	河北工业大学电子信息工程学院天津市电子材料与器件重点实验室	263	1540	17.0	22.0
2	王辰伟	河北工业大学电子信息工程学院天津市电子材料与器件重点实验室	80	287	8.0	10.0
3	李祥州	河北工业大学电子信息工程学院天津市电子材料与器件重点实验室	3	9	2.0	3.0
4	岳昕	河北工业大学电子信息工程学院天津市电子材料与器件重点实验室	2	3	1.0	1.0
5	郑环	河北工业大学电子信息工程学院天津市电子材料与器件重点实验室	3	15	2.0	3.0