羟基化处理对氮化硼膜耐原子氧性能的影响

• 作者: 刘强 孙煜 张宇 马金瑞 黄峰
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: 纳米复合材料 六方氮化硼 羟基化 纤维素纳米纤维 原子氧
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 61-67
• 页数: 7页
• 分类号: TB332
• 语种: 中文
• DOI: 10.11868/j.issn.1001-4381.2017.001154

摘要

采用氢氧化钠溶液对六方氮化硼进行表面羟基化处理,以两种氮化硼和纤维素纳米纤维为原料通过真空抽滤层层自组装方法制备高氮化硼含量的柔性自支撑薄膜.在地面模拟空间环境中考察两种氮化硼膜的耐原子氧性能.结果表明:改性氮化硼膜比未改性膜的质量损失和剥蚀率分别下降了33％和38％.实验后两种薄膜表面呈现斑驳的“地毯状”;主要元素发生了氧化,改性氮化硼膜中氧化硼含量更高;氮化硼晶体产生了晶格畸变.结合实验中两种氮化硼膜的行为变化,提出了其与原子氧的反应模型,分析了羟基化处理对氮化硼膜耐原子氧性能的影响.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘强		14	74	5.0	8.0
2	黄峰		10	34	4.0	5.0
3	马金瑞		8	21	3.0	4.0
4	孙煜		3	0	0.0	0.0
5	张宇		1	0	0.0	0.0