HFCVD金刚石薄膜的热场模拟及实验

• 作者: 刘宜霖 张礼 檀柏梅 路一泽 高宝红
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 热丝化学气相沉积(HFCVD) 金刚石薄膜 温度场 有限元分析 均匀性
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 半导体制造技术
• 页码范围: 53-58
• 页数: 6页
• 分类号: TN304.055|TN304.18
• 语种: 中文
• DOI: 10.13290/j.cnki.bdtjs.2018.01.008

摘要

基体温度是影响金刚石薄膜生长质量的重要因素之一.基于有限元分析法,通过AN-SYS CFX软件对基体温度场进行模拟仿真,得到基体表面温度场的分布,并分别讨论了热丝-基体距离、热丝间距、水冷系数等参数对系统温度场均匀性和一致性的影响.经仿真优化后得到的参数值分别为热丝-基体距离10 mm、热丝间距15 mm、水冷系数1 000 W/(m2·K).在此优化工艺的基础上进行热丝化学气相沉积(HFCVD)金刚石薄膜的实验,并采用扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对金刚石薄膜表面特征进行检测.结果表明:利用仿真优化后的薄膜生长参数,可以在金刚石薄膜生长区域得到比较均匀的多晶金刚石薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	檀柏梅	河北工业大学电子信息工程学院	85	534	13.0	18.0
3	高宝红	河北工业大学电子信息工程学院	29	61	4.0	5.0
9	刘宜霖	河北工业大学电子信息工程学院	5	10	2.0	2.0
11	路一泽	河北工业大学电子信息工程学院	3	4	2.0	2.0
17	张礼	河北工业大学电子信息工程学院	1	0	0.0	0.0