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摘要:
对极紫外光刻掩模的吸收层和多层膜分别建模,将二者组合以实现对具有复杂图形分布的掩模衍射谱的快速精确仿真.对存在图形偏移的吸收层,采用扩展的边界脉冲修正法进行仿真.对无缺陷及含缺陷的多层膜,分别采用等效膜层法和基于单平面近似的方法进行仿真.采用等效膜层法修正单平面近似法中的平面镜反射系数,提高了大角度(大于10°)入射下的含缺陷多层膜的仿真精度.采用张量积、矢量化并发计算提高了仿真速度.对无缺陷掩模的图形关键尺寸仿真表明,改进方法与严格仿真的误差在0.4 nm以内,仿真精度与速度均优于所对比的域分解方法.对含缺陷掩模,改进方法可准确仿真图形关键尺寸随吸收层偏移的变化,与严格仿真相比,对周期为240 nm的掩模,在0.6 nm仿真误差下,仿真速度提升了150倍.
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文献信息
篇名 基于改进型结构分解的极紫外光刻掩模衍射谱快速仿真方法
来源期刊 光学学报 学科 物理学
关键词 衍射 极紫外光刻 掩模衍射谱仿真 结构分解法 掩模优化 缺陷补偿
年,卷(期) 2018,(1) 所属期刊栏目 衍射与光栅
研究方向 页码范围 29-39
页数 11页 分类号 O436
字数 语种 中文
DOI 10.3788/AOS201838.0105001
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 王向朝 中国科学院上海光学精密机械研究所 170 1628 23.0 35.0
2 张恒 中国科学院上海光学精密机械研究所 34 171 6.0 12.0
3 李思坤 中国科学院上海光学精密机械研究所 25 3 1.0 1.0
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研究主题发展历程
节点文献
衍射
极紫外光刻
掩模衍射谱仿真
结构分解法
掩模优化
缺陷补偿
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学学报
半月刊
0253-2239
31-1252/O4
大16开
上海市嘉定区清河路390号(上海800-211信箱)
4-293
1981
chi
出版文献量(篇)
11761
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35
总被引数(次)
130170
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