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摘要:
为了探测和识别半导体晶圆生产线上的晶圆表面缺陷,及时诊断出半导体晶圆制造过程的故障源,提出一套晶圆表面缺陷检测与识别系统.该系统首先采用层次聚类法将晶圆表面的局部缺陷划分为缺陷簇,并提出一种基于轮廓系数标准的最优缺陷簇数目判定方法,提升了缺陷簇识别性能.针对晶圆表面常见的线形、曲线形和椭球形缺陷模式,该系统充分考虑数据在空间子流形上的分布,采用基于流形调节的局部连续高斯模型(LCGMM),同时加入主曲线模型,实现了对晶圆表面局部缺陷模式分布的统计描述建模.在完成初始建模识别的基础上,进一步提出集成LCGMM和主曲线模型的混合模型,对晶圆表面所有的缺陷模式进行建模识别,以提高缺陷模式识别的准确性.通过仿真案例和工业案例的实验结果,证明了该系统的有效性与实用性.
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文献信息
篇名 基于混合模型与流形调节的晶圆表面缺陷识别
来源期刊 计算机集成制造系统 学科 工学
关键词 半导体制造 晶圆缺陷 流形调节 混合模型 模式识别 故障诊断
年,卷(期) 2018,(2) 所属期刊栏目 数字化/智能化/网络化制造技术
研究方向 页码范围 302-308
页数 7页 分类号 TP181
字数 5238字 语种 中文
DOI 10.13196/j.cims.2018.01.003
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 余建波 同济大学机械与能源工程学院 64 193 8.0 10.0
2 卢笑蕾 同济大学机械与能源工程学院 2 9 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
半导体制造
晶圆缺陷
流形调节
混合模型
模式识别
故障诊断
研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
计算机集成制造系统
月刊
1006-5911
11-5946/TP
大16开
北京2413信箱34分箱
82-289
1995
chi
出版文献量(篇)
6201
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22
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