高气压不同碳源浓度对纳米金刚石薄膜生长影响研究

• 作者: 何硕 周程 梁天 汪建华 熊刚 白傲
• 来源期刊: 真空与低温
• 学科: 工学
• 关键词: 微波等离子体 化学气相沉积 纳米金刚石薄膜 气压
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 107-111
• 页数: 5页
• 分类号: TB383|O484
• 字数: 3620字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-7086.2018.02.007

摘要

利用微波等离子体气相沉积法,以氢气、氩气、甲烷为气源,在20~26 kPa,碳源浓度0.3%~1%条件下,通过改变气压与碳源浓度来制备纳米金刚石薄膜.运用Raman、SEM、XRD分别表征纳米金刚石薄膜的质量、表面形貌、晶粒大小.结果表明随着气压升高,沉积速率越快,薄膜质量先升高后降低.在一定气压范围内可以通过增大气压减少碳源浓度,能获得相对高质量的纳米金刚石薄膜.