铜钨触头电烧蚀机理探讨

• 作者: 周扬 周芳 曹伟产 陈伟博
• 来源期刊: 电工材料
• 关键词: 触头 烧蚀 裂纹 组织结构
• 年，卷（期）: 2018,（5）
• 所属期刊栏目: 研究·分析
• 页码范围: 3-4,9
• 页数: 3页
• 分类号: TM206
• 语种: 中文
• DOI: 10.16786/j.cnki.1671-8887.eem.2018.05.001

摘要

通过扫描电镜、三维显微镜等设备分析CuW触头开断后的烧蚀形貌,讨论了CuW触头通电时烧蚀机理.分析结果表明,CuW触头在开断烧蚀时,烧蚀位置优先出现在Cu聚集区域.而裂纹的形成由触头表面的电弧高温侵蚀引起,而微裂纹在反复电弧烧蚀作用下将成为触头失效的根源.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈伟博		10	6	2.0	2.0
2	曹伟产		18	5	1.0	2.0
3	周芳		4	4	1.0	2.0
4	周扬		5	4	1.0	2.0