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超薄锗片粘蜡工艺研究
超薄锗片粘蜡工艺研究
作者:
王云彪
田原
耿莉
陈雅楠
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
超薄锗片
抛光片
粘蜡
表面形变
吸头
摘要:
超薄锗片是制作多结空间太阳能电池的主要衬底材料,随着空间卫星技术的不断发展,对高质量超薄锗抛光片的需求量正在逐年增加.粘蜡抛光是获得高平整度抛光片的主要手段,也是未来超薄大尺寸锗单晶片加工的必然选择.从涂蜡参数、烘烤条件、翻转吸头和压头参数影响等方面,研究蜡层厚度及均匀性和粘蜡后表面形变问题,通过调整参数,重新设计翻转吸头,确定了适合超薄锗片的粘蜡工艺,获得了高平整度的锗抛光片.
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文献信息
篇名
超薄锗片粘蜡工艺研究
来源期刊
电子工艺技术
学科
工学
关键词
超薄锗片
抛光片
粘蜡
表面形变
吸头
年,卷(期)
2018,(5)
所属期刊栏目
新工艺 新技术
研究方向
页码范围
297-300
页数
4页
分类号
TN605
字数
3189字
语种
中文
DOI
10.14176/j.issn.1001-3474.2018.05.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
田原
中国电子科技集团公司第四十六研究所
17
24
3.0
4.0
2
耿莉
中国电子科技集团公司第四十六研究所
5
7
1.0
2.0
3
王云彪
中国电子科技集团公司第四十六研究所
18
49
4.0
5.0
4
陈雅楠
中国电子科技集团公司第四十六研究所
1
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1998(2)
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二级参考文献(2)
2001(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2002(2)
参考文献(0)
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
超薄锗片
抛光片
粘蜡
表面形变
吸头
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第二研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-3474
CN:
14-1136/TN
开本:
大16开
出版地:
太原市115信箱
邮发代号:
22-52
创刊时间:
1980
语种:
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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