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摘要:
超薄锗片是制作多结空间太阳能电池的主要衬底材料,随着空间卫星技术的不断发展,对高质量超薄锗抛光片的需求量正在逐年增加.粘蜡抛光是获得高平整度抛光片的主要手段,也是未来超薄大尺寸锗单晶片加工的必然选择.从涂蜡参数、烘烤条件、翻转吸头和压头参数影响等方面,研究蜡层厚度及均匀性和粘蜡后表面形变问题,通过调整参数,重新设计翻转吸头,确定了适合超薄锗片的粘蜡工艺,获得了高平整度的锗抛光片.
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内容分析
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文献信息
篇名 超薄锗片粘蜡工艺研究
来源期刊 电子工艺技术 学科 工学
关键词 超薄锗片 抛光片 粘蜡 表面形变 吸头
年,卷(期) 2018,(5) 所属期刊栏目 新工艺 新技术
研究方向 页码范围 297-300
页数 4页 分类号 TN605
字数 3189字 语种 中文
DOI 10.14176/j.issn.1001-3474.2018.05.013
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 田原 中国电子科技集团公司第四十六研究所 17 24 3.0 4.0
2 耿莉 中国电子科技集团公司第四十六研究所 5 7 1.0 2.0
3 王云彪 中国电子科技集团公司第四十六研究所 18 49 4.0 5.0
4 陈雅楠 中国电子科技集团公司第四十六研究所 1 0 0.0 0.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
超薄锗片
抛光片
粘蜡
表面形变
吸头
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子工艺技术
双月刊
1001-3474
14-1136/TN
大16开
太原市115信箱
22-52
1980
chi
出版文献量(篇)
2306
总下载数(次)
10
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