高能喷丸对TA2表面TiN薄膜生长和力学性能的影响

• 作者: 张聪惠 王耀勉 胡晓 高鹏
• 来源期刊: 稀有金属
• 学科: 工学
• 关键词: 基材HESP TiN薄膜 薄膜生长 力学性能
• 年，卷（期）: 2018,（8）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 841-849
• 页数: 9页
• 分类号: TG178
• 语种: 中文
• DOI: 10.13373/j.cnki.cjrm.XY17070034

摘要

利用脉冲磁控溅射法分别在工业纯钛TA2表面和高能喷丸(HESP)工业纯钛TA2表面沉积TiN薄膜,采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)分析TiN薄膜的形貌、 晶体结构,采用划痕仪、 纳米压痕仪测量TiN薄膜的膜基结合力、 硬度和弹性模量,研究TA2基材HESP对TiN薄膜生长和力学性能的影响.结果表明:在脉冲磁控溅射条件下,基材HESP可改变TiN薄膜生长择优取向,原始基材表面TiN薄膜为(200),(220)晶面共同择优生长,而HESP 20 min基材表面(200)面择优取向十分明显;基材HESP可改变TiN薄膜生长方式,原始基材表面TiN薄膜为混合生长,HESP基材表面薄膜变成层状生长,使薄膜更致密;基材HESP可提高TiN薄膜膜基结合力,原始态基材表面TiN薄膜结合力为21.4 N,HESP 20 min基材表面TiN薄膜结合力达到42.3 N,提高了约一倍;基材HESP可以提高TiN薄膜抵抗塑性变形能力,且原始基材表面TiN薄膜硬度和弹性模量最小,分别为30.1,343.6 GPa,HESP 20 min基材表面TiN薄膜硬度达到35.1 GPa,弹性模量达到347.9 GPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张聪惠	西安建筑科技大学冶金工程学院	42	226	9.0	13.0
2	王耀勉	西安建筑科技大学冶金工程学院	18	36	4.0	5.0
3	高鹏	西安建筑科技大学冶金工程学院	11	27	3.0	5.0
4	胡晓	西安建筑科技大学冶金工程学院	1	3	1.0	1.0