硒化锌晶体精细雾化抛光液及去除机理研究

• 作者: 夏明光 施卫彬 李庆忠
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学机械抛光 硒化锌 去除机理 精细雾化:正交试验 抛光液
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 表面质量控制及检测
• 页码范围: 271-276
• 页数: 6页
• 分类号: TQ175
• 语种: 中文
• DOI: 10.16490/j.cnki.issn.1001-3660.2018.06.039

摘要

目的 配制适合硒化锌雾化施液化学机械抛光的最优抛光液.方法 选取氧化铝磨粒、pH调节剂四甲基氢氧化铵、氧化剂过氧化氢、表面活性剂聚乙烯吡咯烷酮为主要活性成分,以材料去除速率和表面粗糙度为评价指标,通过正交试验对硒化锌晶体进行精细雾化抛光,分析材料去除机理,并与传统抛光对比.结果 氧化铝质量分数为9％、pH值为11、过氧化氢含量为3.5％、聚乙烯吡咯烷酮含量为0.75％时,材料去除率较高,为923.67 nm/min,同时表面粗糙度较小,为2.13 nm.在相同工况条件下,传统抛光材料的去除率和表面粗糙度分别为965.53 nm/min和2.27 nm.结论 抛光液各组分对试验结果影响最大的为氧化铝磨粒,然后依次为氧化剂、pH值、表面活性剂.精细雾化抛光效果与传统抛光相近,但抛光液用量仅为后者的1/8.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李庆忠	江南大学机械工程学院	47	113	5.0	6.0
2	夏明光	江南大学机械工程学院	4	2	1.0	1.0
3	施卫彬	江南大学机械工程学院	4	2	1.0	1.0