钛合金基体上TiAlN膜层的退除工艺

• 作者: 付新广 王彦峰 王战东 王毅飞
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 工学
• 关键词: 退膜液 TiAlN膜 钛合金
• 年，卷（期）: 2018,（7）
• 所属期刊栏目: 工艺探讨
• 页码范围: 72-75
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 3122字
• 语种: 中文

摘要

目前鲜见钛合金基体上TiAlN膜层退除工艺的研究报道.利用电弧离子镀技术并使用Ti-Al(原子比1∶1)合金靶在钛合金TC4基体上镀覆TiAlN膜层.使用亚硝酸盐、氢氧化钠配制退膜液,采用正交试验优选了退膜液各成分的浓度和退膜温度,确定了退膜液各成分的浓度及最佳退膜工艺,并比较了钛合金TC4基体及退膜后基体的表面形貌、成分、粗糙度、尺寸和结合力的变化.结果表明:以优选工艺退膜后基体表面光亮如初,形貌、成分、粗糙度变化不大,表面会产生1μm左右的轻微腐蚀,结合力略有提高.该退膜液成分简单、易于控制,适用于批量生产.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王彦峰		19	62	5.0	7.0
2	王毅飞		12	15	2.0	3.0
3	付新广		2	2	1.0	1.0
4	王战东		2	2	1.0	1.0