皮秒激光抛光KDP晶体的工艺研究

• 作者: 刘朋 吴宝业 周翔 段军 白克强 邓磊敏 韩小花
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 激光技术 激光抛光 工艺研究 KDP晶体 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 激光与光电子技术应用
• 页码范围: 166-171
• 页数: 6页
• 分类号: O786
• 字数: 3101字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7510/jgjs.issn.1001-3806.2018.02.005

摘要

为了改变KDP晶体精密加工难和效率低的状态,采用皮秒超快激光抛光KDP晶体的新方法,系统地研究了激光波长、单脉冲能量密度、激光束入射角、光斑搭接率、扫描方式以及激光焦深等因素对激光抛光KDP晶体质量的影响规律,并对激光与KDP晶体的相互作用机理进行了分析.结果表明,在皮秒激光波长 λ=355nm、聚焦镜焦距 f=56mm、激光束入射角α=84°、激光重复频率F=800kHz、脉冲能量密度Q=2.4J/cm2、光斑搭接率O=60%、45°多方向交叉扫描以及加工次数T=10次的优化参量条件下,KDP晶体表面粗糙度均方根值可达到76nm.这一结果使激光抛光技术的研究得到了进一步补充.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	段军	华中科技大学武汉光电国家实验室	20	176	8.0	13.0
2	周翔	华中科技大学武汉光电国家实验室	11	86	6.0	9.0
3	吴宝业	华中科技大学武汉光电国家实验室	2	8	2.0	2.0
4	刘朋	华中科技大学武汉光电国家实验室	5	6	1.0	2.0
5	白克强	华中科技大学武汉光电国家实验室	3	11	2.0	3.0
6	韩小花	华中科技大学武汉光电国家实验室	2	11	2.0	2.0