Co离子注入ITO薄膜的磁性研究

• 作者: 王佳伟 罗凤凤
• 来源期刊: 江西科学
• 关键词: ITO薄膜 离子注入 室温铁磁性
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 工程与材料科学
• 页码范围: 26-30
• 页数: 5页
• 分类号: O472+.5
• 语种: 中文
• DOI: 10.13990/j.issn1001-3679.2018.01.007

摘要

ITO薄膜是一类被广泛应用的透明导电氧化物薄膜材料,对其进行磁性离子掺杂,使其具有室温铁磁性而用于自旋电子学器件,具有重要的意义.以ITO薄膜为基体,用MEVVA源注入磁性Co离子,经快速热退火处理后,研究Co离子注入前后薄膜样品的磁性质.经GAXRD和XPS分析,没有发现Co纳米团簇及其氧化物等第二相生成.未注入Co离子的ITO薄膜具有室温铁磁性,其磁性起源于薄膜中少量的Vo,Co离子注入后,薄膜样品的饱和磁化强度明显增强,一方面是由于Co-O-Co铁磁耦合对的生成,另一方面是磁性Co离子注入后,促进了样品中磁极化子间的交换相互作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王佳伟	江西省科学院应用物理研究所	6	5	2.0	2.0
2	罗凤凤	江西省科学院应用物理研究所	5	5	2.0	2.0