沉积在Si衬底上Co2MnSi薄膜的结构和磁性能分析

• 作者: 刘德高 李万军 李纪辉 杨昌平 杨辅军 陈宏博 陈晓琴
• 来源期刊: 湖北大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射 哈斯勒合金 磁性能 微观结构
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 化学化工与材料科学
• 页码范围: 158-161,171
• 页数: 5页
• 分类号: TB324.1
• 字数: 1988字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-2375.2018.02.009

摘要

将不同厚度的Co2MnSi (CMS)薄膜沉积在Si衬底上,并在不同的退火温度下退火,以探究其微观结构以及磁性能的变化规律.保持CMS薄膜退火温度为600℃,随着薄膜厚度增加至100 nm,由于B2结构取向增大,其Ms随之相应增大到923 emu/cc;保持CMS薄膜厚度为50 nm,随着退火温度升高到700 ℃,可以观察到B2结构取向减小,而且Hc值异常增加到134 Oe,这可能是由于CMS层与Ta层存在相互扩散的现象所导致.