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六氟化硫扰动电离层研究进展综述
六氟化硫扰动电离层研究进展综述
作者:
史红星
张远鹏
白云
迟卉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
六氟化硫
电离层环境
研究进展
摘要:
六氟化硫(SF6)是大气环境中常用的示踪剂,是电力行业的灭弧物,在外太空环境也有着广泛的应用.就SF6在电离层环境中的应用作了综述,从SF6空间主动释放试验、国内研究现状、研究的内在动力三个方面对SF6作了详细论述,然后指出了SF6在应用过程中存在的不足,并给出了改进建议.
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F2层反射
E层吸收
短波损耗
短波通信
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文献信息
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相关文献总数
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文献信息
篇名
六氟化硫扰动电离层研究进展综述
来源期刊
低温与特气
学科
地球科学
关键词
六氟化硫
电离层环境
研究进展
年,卷(期)
2018,(1)
所属期刊栏目
综述评论
研究方向
页码范围
1-3
页数
3页
分类号
P352
字数
2902字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1007-7804.2018.01.001
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
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1
史红星
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迟卉
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4
白云
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张远鹏
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引文网络
引文网络
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节点文献
六氟化硫
电离层环境
研究进展
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
低温与特气
主办单位:
光明化工研究设计院
全国特种气体信息站
出版周期:
双月刊
ISSN:
1007-7804
CN:
21-1278/TQ
开本:
大16开
出版地:
大连市甘井子区甘北路34号
邮发代号:
8-261
创刊时间:
1983
语种:
chi
出版文献量(篇)
2080
总下载数(次)
6
总被引数(次)
4986
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