一氧化硅加速铜氧化的研究

• 作者: 吴正翠 邵宇
• 来源期刊: 安徽化工
• 学科: 化学
• 关键词: 氧化 一氧化硅 表面掺杂 铜
• 年，卷（期）: 2018,（1）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 56-58
• 页数: 3页
• 分类号: O61|TB321
• 字数: 2625字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1008-553X.2018.01.024

摘要

报道了一氧化硅呈现出的表面依赖的化学性质.表面掺杂使一氧化硅加速了铜粉的氧化.通过X-射线粉末衍射半定量分析可知:铜的氧化速率比未加入一氧化硅时增加了近50倍.这一现象赋予了一氧化硅新的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴正翠	安徽师范大学化学与材料科学学院	19	150	6.0	12.0
2	邵宇	安徽省池州学院材料与化学工程系	1	0	0.0	0.0