EIS、LEIS和DEIS在金属腐蚀与防护研究中的应用进展

• 作者: 朱锡昶 李岩 李祝文 秦永坤 葛燕
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 电化学交流阻抗谱 局部电化学阻抗谱 动电位电化学阻抗谱 涂层 耐蚀性 缺陷 局部腐蚀 空蚀
• 年，卷（期）: 2018,（9）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 404-410
• 页数: 7页
• 分类号: TG17
• 字数: 6127字
• 语种: 中文
• DOI: 10.19289/j.1004-227x.2018.09.008

摘要

介绍了电化学阻抗谱(EIS)、局部电化学阻抗谱(LEIS)和动电位电化学阻抗谱(DEIS)的优缺点,综述了这3种阻抗技术在金属表面防护涂层耐蚀性和微观缺陷研究中的应用现状,以及在金属点蚀、空蚀等局部腐蚀研究中的进展,展望了LEIS和DEIS两种阻抗技术组合在金属表面局部腐蚀动态监测方面的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李岩		15	548	6.0	15.0
3	朱锡昶		33	305	11.0	16.0
7	李祝文		2	5	2.0	2.0
11	秦永坤		1	2	1.0	1.0