90nm浮栅型P-FLASH器件总剂量电离辐射效应研究

• 作者: 刘国柱 吴建伟 曹立超 朱少立 汤偲愉 洪根深 郑若成
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 浮栅型P-FLASH 总剂量电离效应 编程/擦除时间 阈值电压漂移
• 年，卷（期）: 2018,（8）
• 所属期刊栏目: 微电子制造与可靠性
• 页码范围: 36-40,43
• 页数: 6页
• 分类号: TN306
• 字数: 2795字
• 语种: 中文

摘要

研究了基于90 nm eFLASH工艺制备的浮栅型P-Channel FLASH单元的总剂量电离辐射效应,主要研究了FLASH单元随总剂量增加的变化规律及鳊程/擦除时间对FLASH单元抗总剂量能力的影响.研究表明:随着总剂量的增加,浮栅型P-FLASH器件“开”态驱动能力(Idsat)、“关”态漏电(Ioff)及跨导(gm)未发生明显退化,但“擦除/编程”态的阈值窗口明显减小,且呈现“鳊程”态阈值电压(TP)下降幅度较“擦除”态(VTE)快的特征;编程/擦除时间的增加会导致FLASH单元阈值电压漂移量,对鳊程态FLASH单元,鳊程时间的增大导致阈值电压漂移量增大,而对于擦除态器件FLASH单元,擦除时间的增加导致阈值电压漂移量减小.综上所述,总剂量的增加仅引起浮栅型P-FLASH单元阈值电压的漂移,即浮栅内电荷的转移;编程/擦除时间的增加导致FLASH单元阈值电压漂移量的差异,主要是由于编程/擦除应力时间的增加导致隧道氧化层及界面处陷阱电荷的引入所引起的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	洪根深	中国电子科技集团公司第五十八研究所	33	74	5.0	6.0
2	刘国柱	中国电子科技集团公司第五十八研究所	15	32	4.0	4.0
3	吴建伟	中国电子科技集团公司第五十八研究所	25	39	4.0	4.0
4	朱少立	中国电子科技集团公司第五十八研究所	4	5	1.0	2.0
5	汤偲愉	中国电子科技集团公司第五十八研究所	2	0	0.0	0.0
6	曹立超	中国电子科技集团公司第五十八研究所	1	0	0.0	0.0