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基于变压力的CCOS光学研抛技术
基于变压力的CCOS光学研抛技术
作者:
万勇建
余德平
刘侮涛
叶枫菲
赵洪深
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
光学加工
CCOS
变压力
研抛
摘要:
在非球面及自由曲面加工中,应用最为成熟的是计算机控制光学表面成型(CCOS)技术.现有 CCOS 技术普遍采用恒压力研抛方法,加工过程中研抛压力保持恒压,通过控制驻留时间实现所需的去除量.本文研究了基于变压力的CCOS研抛方法,增加了调控维度,通过同时控制研抛压力和驻留时间实现所需的去除量.首先,对该方法建立了加工控制的数学模型.然后,测量分析了磨头榆出力的稳定性和响应速度,去除函数的稳定性.最终,在 K9村料平面镜上开展了正弦压力抛光的村料去除实验.结果表明,实测与理想正弦研抛压力周期一致,力误差标准差约为0.35 N,对去除面形PV和RMS的影响均不到9%;实际与仿真加工的面形轮廓周期一致,加工区域的面形误差在17%以内.本文实现了变压力研抛,验证了基于变压力的CCOS研抛方法在光学加工中的有效性.
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文献信息
篇名
基于变压力的CCOS光学研抛技术
来源期刊
光电工程
学科
物理学
关键词
光学加工
CCOS
变压力
研抛
年,卷(期)
2018,(4)
所属期刊栏目
科研论文
研究方向
页码范围
45-52
页数
8页
分类号
O436.3
字数
3847字
语种
中文
DOI
10.12086/oee.2018.170642
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
万勇建
中国科学院光电技术研究所
33
180
8.0
11.0
2
余德平
四川大学制造科学与工程学院
20
57
4.0
6.0
3
赵洪深
中国科学院光电技术研究所
5
23
3.0
4.0
4
叶枫菲
四川大学制造科学与工程学院
1
1
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1.0
8
刘侮涛
中国科学院光电技术研究所
1
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CCOS
变压力
研抛
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研究来源
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研究去脉
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期刊影响力
光电工程
主办单位:
中国科学院光电技术研究所
中国光学学会
出版周期:
月刊
ISSN:
1003-501X
CN:
51-1346/O4
开本:
大16开
出版地:
四川省成都市双流350信箱
邮发代号:
创刊时间:
1974
语种:
chi
出版文献量(篇)
4776
总下载数(次)
5
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