可应用于四结砷化镓太阳电池的ZnS/MgF2/SiO2减反射膜的结构设计

• 作者: 宋冠宇 张流柱 徐晓壮 涂洁磊 盛钰清 章威 郭腾腾 颜平远
• 来源期刊: 云南师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 四结砷化镓太阳电池 三层减反射膜 宽光谱 TFC光学薄膜软件
• 年，卷（期）: 2018,（2）
• 所属期刊栏目: 可再生能源研究
• 页码范围: 6-10
• 页数: 5页
• 分类号: TM914.4+2
• 字数: 2134字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7699/j.ynnu.ns-2018-015

摘要

在采用磁控溅射方法分别制备单层ZnS、MgF2、SiO2薄膜及表征其折射率基础上,以折射率逐渐减小的三层结构(HML结构)思想,采用TFC光学薄膜软件,设计并模拟了可用于四结砷化镓(GaInP/GaAs/GaInAs/GaInAs)太阳电池的三层ZnS/MgF2/SiO2减反射膜系.并分析模拟了窗口层厚度、各膜层厚度和折射率以及光入射角对有效反射率的影响.结果表明:窗口层厚度、SiO2的折射率和ZnS膜层厚度对有效反射率Re的影响最为显著;在350～1 800 nm宽波段,当窗口层厚度为83 nm,膜系厚度分别为57 nm、37 nm和88 nm,且光入射角为0°时,有效反射率Re最小可达3.38％.