二氧化钛薄膜表面粗糙度研究

• 作者: 杨琛 潘永强
• 来源期刊: 应用光学
• 学科: 工学
• 关键词: 光学薄膜 二氧化钛 表面粗糙度 电子束热蒸发
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 光学计量与测试
• 页码范围: 400-404
• 页数: 5页
• 分类号: TN247|O484
• 字数: 3162字
• 语种: 中文
• DOI: 10.5768/JAO201839.0303005

摘要

为了探究二氧化钛(TiO2)薄膜表面粗糙度的影响因素,利用离子束辅助沉积电子束热蒸发技术对不同基底粗糙度以及相同基底粗糙度的K9玻璃完成二氧化钛(TiO2)光学薄膜的沉积.采用TalySurf CCI非接触式表面轮廓仪分别对镀制前基底表面粗糙度和镀制后薄膜表面粗糙度进行测量.实验表明,TiO2薄膜表面粗糙度随着基底表面的增大而增大,但始终小于基底表面粗糙度,说明TiO2薄膜具有平滑基地表面粗糙的作用;随着沉积速率的增大,薄膜表面粗糙度先降低后趋于平缓;对于粗糙度为2 nm的基底,离子束能量大小的改变影响不大,薄膜表面粗糙度均在1.5 nm左右;随着膜层厚度的增大,薄膜表面粗糙度先下降后升高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	潘永强	西安工业大学光电工程学院	63	392	11.0	15.0
2	杨琛	西安工业大学光电工程学院	3	5	1.0	2.0