不同还原工艺对石墨烯薄膜光催化性能的影响

• 作者: 刘家鹏 孙世清 邹卫武 郑艳银 顾宝珊
• 来源期刊: 河北工业科技
• 学科: 工学
• 关键词: 低维金属材料 还原工艺 真空还原 空气还原 改性石墨烯 光催化
• 年，卷（期）: 2018,（6）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 406-411
• 页数: 6页
• 分类号: TB34
• 字数: 4747字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7535/hbgykj.2018yx06004

摘要

为了研究不同热处理温度、还原方式对薄膜光催化性能的影响,根据改进的Hummers法制备了5 mg/mL氧化石墨烯分散液,采用匀胶法在玻璃片基底上制备了氧化石墨烯薄膜.通过SEM扫描电子显微镜、EDS能谱仪和拉曼光谱仪对不同热处理还原前后薄膜的微观形貌、成分、结构进行表征,并在模拟日光型光源照明下,对40 mg/L亚甲基蓝溶液进行降解.结果表明:随着热处理温度的升高,薄膜表面含氧官能团去除越彻底,EDS能谱中C/O原子比越大,拉曼光谱中D峰与G峰强度比(ID/IG)越强,与空气热处理还原法相比,真空热处理更加温和,表面缺陷修复得更多.在相同温度下,真空热处理薄膜光催化降解能力比空气热处理高,可为研究石墨烯催化降解提供参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙世清	河北科技大学材料科学与工程学院	64	339	8.0	17.0
2	顾宝珊	中国钢研科技集团有限公司先进金属材料涂镀国家工程实验室	24	64	5.0	6.0
3	郑艳银	河北科技大学材料科学与工程学院	4	2	1.0	1.0
5	刘家鹏	河北科技大学材料科学与工程学院	4	1	1.0	1.0
8	邹卫武	河北科技大学材料科学与工程学院	2	1	1.0	1.0