AACVD方法制备FTO薄膜及其结构与光电性能研究

• 作者: 林威豪 汪建勋 陈胜男 韩高荣 马晔城
• 来源期刊: 燕山大学学报
• 学科: 工学
• 关键词: 气溶胶辅助 化学气相沉积 FTO薄膜 低辐射性能
• 年，卷（期）: 2018,（3）
• 所属期刊栏目: 材料科学与工程
• 页码范围: 234-239
• 页数: 6页
• 分类号: TQ172.1
• 字数: 2484字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-791X.2018.03.007

摘要

以单丁基三氯化锡为Sn源,氟化铵为F源,甲醇为溶剂,采用超声雾化-气溶胶辅助气相化学沉积方法制备了均匀的FTO(SnO2:F)透明导电薄膜.运用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜、透射电子显微镜、霍尔效应测试仪等方法研究了镀膜时间对FTO薄膜微观结构和光电性能的影响规律.结果表明,薄膜物相为(200)晶面择优生长的金红石相SnO2;随镀膜时间增加,薄膜表面颗粒粗化,厚度近似呈线性增加;镀膜时间每延长2 min,可见光区主波长(550 nm)透过率下降约10％,中远红外光区平均反射率先增大后减小,电阻率先减小后增大.在本文实验条件下,薄膜厚度可从约250 nm增加至约2200 nm,电阻率在2.89×10-4～6.69×10-4Ω·cm之间,依据中远红外反射光谱计算半球辐射率在0.21～0.40之间,为进一步的性能优化提供了实验基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩高荣	浙江大学材料科学与工程学院	187	1971	24.0	35.0
2	汪建勋	浙江大学材料科学与工程学院	20	263	8.0	16.0
4	陈胜男	浙江大学材料科学与工程学院	2	1	1.0	1.0
8	林威豪	浙江大学材料科学与工程学院	2	1	1.0	1.0
12	马晔城	浙江大学材料科学与工程学院	1	1	1.0	1.0